SPIE - BACUS Scholarship

Beca SPIE-BACUS

Recibirás un pago único de unos 4.600 EUR (5.000 USD) para tus estudios. Podrás destinar esta cantidad al pago de las tasas de matrícula, los libros de texto, el material de laboratorio, el equipamiento necesario para tu programa de estudios o un ordenador imprescindible para tus estudios. La beca se abona en un único pago y no se distribuye a lo largo de un periodo más prolongado. La concede BACUS, el grupo especializado de la SPIE Optics Society dedicado a la tecnología de fotomáscaras —las plantillas con patrones que se utilizan para imprimir circuitos en chips semiconductores—.

Quién puede solicitarla

• Nivel: Debes ser estudiante a tiempo completo, ya sea en un programa de grado o de máster.
• Ámbito: Estás cursando estudios de microlitografía (el proceso de aplicar patrones de circuitos minúsculos a los chips) o una materia relacionada centrada en la tecnología de fotomáscaras y/o la fotolitografía óptica o EUV.
• Afiliación: Debes ser miembro estudiante de SPIE.
• Situación académica: Aún no has obtenido un título académico definitivo, como un MD, un JD o un PhD.
• Nacionalidad y universidad: Pueden presentar su solicitud candidatos de todas las nacionalidades y de universidades de todo el mundo. Los ganadores de ediciones anteriores han estudiado en Estados Unidos y Corea del Sur.

Cómo presentar la solicitud

Las solicitudes deben enviarse en línea a través del portal de la SPIE, donde deberás iniciar sesión con tu cuenta de la SPIE. La fecha límite de presentación de solicitudes es el 1 de julio. Además, deben enviarse dos cartas de recomendación a través del sistema antes de esa fecha. Estas no deben estar redactadas por familiares ni por compañeros de estudios.

¿Qué posibilidades tienes de ganar?

Este premio es muy específico: se concede anualmente a un estudiante de un campo especializado de la fabricación de chips, lo que significa que el número de candidatos elegibles es reducido. Los ganadores anteriores han sido, en su mayoría, estudiantes de doctorado que trabajaban en fotomáscaras y litografía, lo que sugiere que los criterios de selección son exigentes. Si tu tesis se centra claramente en las fotomáscaras o la litografía EUV y puedes demostrar unos resultados de investigación sólidos, tus posibilidades son realistas. No obstante, se trata de un premio único y muy competitivo.