SPIE - BACUS Scholarship

Borsa di studio SPIE-BACUS

Riceverai un pagamento una tantum di circa 4.600 EUR (5.000 USD) a sostegno dei tuoi studi. Potrai utilizzare tale importo per coprire le tasse universitarie, i libri di testo, il materiale di laboratorio, le attrezzature necessarie per il tuo corso di laurea o l’acquisto di un computer indispensabile per i tuoi studi. La borsa di studio viene erogata in un'unica soluzione e non è ripartita su un periodo più lungo. È offerta da BACUS, il gruppo di specialisti all’interno della SPIE Optics Society che si occupa di tecnologia delle fotomaschere, ovvero gli stampi con motivi utilizzati per stampare i circuiti sui chip semiconduttori.

Chi può candidarsi

• Livello: devi essere uno studente a tempo pieno, iscritto a un corso di laurea triennale o magistrale.
• Settore: stai studiando microlitografia (il processo di applicazione di minuscoli schemi di circuiti ai chip) o una materia affine con particolare attenzione alla tecnologia delle fotomaschere e/o alla fotolitografia ottica o EUV.
• Iscrizione: sei membro studentesco della SPIE.
• Stato del titolo di studio: non hai ancora conseguito un titolo accademico definitivo, come un MD, un JD o un PhD.
• Nazionalità e università: sono invitati a candidarsi candidati di tutte le nazionalità e provenienti da università di tutto il mondo. I vincitori delle edizioni precedenti hanno studiato negli Stati Uniti e in Corea del Sud.

Come candidarsi

Le candidature devono essere presentate online tramite il portale SPIE, dove dovrai effettuare l’accesso utilizzando il tuo account SPIE. Il termine ultimo per la presentazione delle candidature è il 1° luglio. Inoltre, entro tale data devono essere inviate tramite il sistema due lettere di raccomandazione. Queste non devono essere redatte da familiari o compagni di studi.

Quanto sono realistiche le tue possibilità?

Questo premio è molto specifico: viene assegnato ogni anno a uno studente in un campo specializzato della produzione di chip, il che significa che il numero di candidati idonei è limitato. I vincitori delle edizioni precedenti sono stati prevalentemente dottorandi che lavoravano su fotomaschere e litografia, il che suggerisce che gli standard siano elevati. Se la tua tesi verte chiaramente sulle fotomaschere o sulla litografia EUV e sei in grado di dimostrare risultati di ricerca validi, le tue possibilità sono concrete. Tuttavia, si tratta di un premio unico e altamente competitivo.